熱壓法:ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后,以 100kgf/cm 2~1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓,同時以1000℃~1600℃進(jìn)行燒結(jié)。熱壓工藝制作過程所需的成型壓力較小,燒結(jié)溫度較低,燒結(jié)時間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高,氧含量分布不均勻,從而影響了生產(chǎn)ITO薄膜的均勻性,且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。
人類社會的存在,科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展,已成為21世紀(jì)首要的戰(zhàn)略儲備物資,金圓柱靶廠,且與各國的政治經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系,在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中,高純材料、合金、各種深加工的制品(半成品)及化學(xué)制品,哪里有金圓柱靶,已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵,石油化工,有機(jī)化工,化工,電子電器,汽車制造,哪家有金圓柱靶,光學(xué)玻璃,玻璃纖維。
但是靶材制作困難,這是因為氧化銦不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑,宿州金圓柱靶,能夠獲得密度為理論值的93%~98%的靶材,這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。日本的科學(xué)家采用Bizo作為添加劑,Bi2O3在820Cr熔化,在l500℃的燒結(jié)溫度超出部分已經(jīng)揮發(fā),這樣能夠在液相燒結(jié)條件下得到比較純的ITO靶材。而且所需要的氧化物原料也不一定是納米顆粒,這樣可以簡化前期的工序。
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